专利名称：半导体制造装置用反应管内管专利类型：外观专利
申请号：CN201930516096.0申请日：20190919公开号：CN305619230S公开日：20200218
专利附图：
申请人：株式会社国际电气
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京银龙知识产权代理有限公司
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