专利名称：抗蚀剂下层膜形成用组合物专利类型：发明专利
发明人：西卷裕和,桥本圭祐,坂本力丸申请号：CN201780030002.7申请日：20170502公开号：CN109154778A公开日：20190104
摘要：本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1a)和/或式(1b)所示的重复结构单元的聚合物、和溶剂。[式(1a)和(1b)中，2个R各自独立地表示烷基、烯基、芳香族烃基、卤原子、硝基或氨基，2个R各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、缩醛基、酰基或缩水甘油基，R表示可以具有取代基的芳香族烃基或杂环基，R表示氢原子、苯基或萘基，2个k各自独立地表示0或1，m表示3～500的整数，p表示3～500的整数，X表示苯环，与该苯环结合的2个‑C(CH)‑基处于间位或对位的关系。]
申请人：日产化学株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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